新型光刻技术研究进展
来源：激光技术杂志2019年第1期北京时间：
作者：何立文, 罗乐, 孟钢, 邵景珍, 方晓东
摘要：集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表，支撑着集成电路芯片的快速发展。新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点，在研发新型光电子器件、实现3维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力。回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术，分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用。对未来光刻技术的发展方向进行了展望。
关键词：激光技术, 光学制造, 新型光刻技术, 无掩模光刻, 掩模光刻, 微纳结构
