三水平U-型设计在对称化L2-偏差下的下界
来源：应用数学学报杂志2018年第1期北京时间：
作者：雷轶菊, 欧祖军
单位：1. 新乡学院数学与信息科学学院, 新乡 453003;<br>2. 吉首大学数学与统计学院, 吉首 416000
摘要：均匀试验设计是部分因子设计的主要方法之，已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性.不管使用哪种偏差，关键的问题是寻找一个精确的偏差下界，因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.本文应用条件极值的方法得到了三水平U-设计在对称化L2-偏差下的下界，该下界可作为寻找均匀设计的一个基准.
关键词：三水平,U-型设计,对称化L2-偏差,下界
