均匀的三水平扩展设计

来源：应用数学学报杂志2018年第5期北京时间：

作者：雷轶菊, 欧祖军, 李洪毅

单位：1. 新乡学院数学与信息科学学院, 新乡 453003;<br>2. 吉首大学数学与统计学院, 吉首 416000

摘要：以计算机技术为基础的模拟已被广泛应用于系统工程和高科技领域的发展中.计算机试验和设计已成为科技文献讨论的热点.扩展设计作为一种新型的试验设计近年来受到越来越广泛地关注.评价设计的最优性准则有很多，均匀性准则是其中的一种.均匀设计以其经济性和同时研究多个高水平因子时具有试验处理的灵活性被广泛接受，尤其是在对模型信息知之甚少时.本文以最优的U-型设计为基础，应用条件极值的方法讨论三水平扩展设计在三种常见偏差下的均匀性，得到了三水平扩展设计在三种常见偏差下的下界，该下界可作为寻找三水平均匀扩展设计的一个基准.

关键词：中心化L2-偏差,可卷L2-偏差,Lee-偏差,扩展设计,下界