基于深紫外激光器的大面积干涉光刻装置研究

来源：上海理工大学学报杂志2022年第6期北京时间：

作者：张岭，胡海峰，顾亮亮，詹其文

单位：上海理工大学 光电信息与计算机工程学院，上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院，上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院，上海 200093,上海理工大学 光电信息与计算机工程学院，上海 200093

摘要：搭建了基于266 nm波长深紫外光源的干涉光刻装置，使用平顶光整形器将高斯光整形成平顶光束，在硅基底上制备出面积为8.9 mm×25.4 mm、周期为407 nm的一维光栅结构图形和周期为860 nm的二维孔洞结构。使用扫描电子显微镜（SEM）测量了平顶光产生的一维干涉结构的线宽、周期等参数，并与高斯光产生的一维干涉结构参数进行对比。实验结果表明，加入了平顶光整形器的干涉光刻装置产生的周期性光栅结构图形均匀性提升了21.36％。

关键词：激光干涉光刻;平顶光;深紫外激光;光栅结构;微纳加工

基金资助：上海市科委部分地方院校能力建设项目（19060502500）