外资在华技术创新溢出是否促进内资企业技术进步——基于门槛效应的经验分析

来源：科技进步与对策杂志2021年第22期北京时间：

作者：黄烨1,刘婷1,2

单位：（1.湘潭大学 商学院，湖南 湘潭 411105；2.湖南师范大学 商学院，湖南 长沙 410081）

摘要：利用2010—2019年中国A股上市公司数据，构建面板门槛模型，探讨外资在华技术创新溢出对内资企业技术进步的门槛效应。结果表明，外资在华技术创新溢出自身存在单门槛效应，对内资企业技术进步的影响呈倒U型关系；以行业外资竞争、内资模仿同构和区域知识产权保护为门槛变量发现，仅当外资竞争水平较低、内资模仿同构程度较低以及区域知识产权保护力度较大时，外资在华技术创新溢出才能促进内资企业技术进步，且其阈值效应存在行业和企业产权异质性。

关键词：技术创新溢出,技术进步,外资竞争,内资模仿同构,知识产权保护

基金资助：国家社会科学基金项目（19BGL009）