光氯化反应选择性脱除三氯氢硅中甲基二氯硅烷
来源：精细化工杂志2020年第1期北京时间：
作者：万烨
摘要：研究采用连续流微通道反应器，利用光氯化反应选择性脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷，考察各因素对甲基二氯硅烷去除率的影响。研究结果表明，增加氯气量和光强，升高温度，减少光源波长，延长反应时间有利于甲基二氯硅烷的去除，在最优条件下，产品中甲基二氯硅烷含量小于0.05?10-6，去除率达到99.6%；反应产物中出现少量四氯化硅，是聚氯硅烷和三氯氢硅发生氯化反应生成。以此为原料使用评价炉制备的多晶硅中碳含量小于3?1015atom/cm3，达到电子一级品指标。
关键词：微通道;光氯化;三氯氢硅;甲基二氯硅烷
基金资助：国家科技攻关计划(工信部工业强基工程项目)
