贵金属溅射靶材的研究进展

作者：许彦亭, 郭俊梅, 王传军, 沈月, 管伟明, 闻明

摘要：溅射靶材是磁控溅射制备薄膜的关键原材料，其质量决定着溅射薄膜的性能。贵金属溅射靶材因具有优异的物理和化学性能而广泛应用于高性能薄膜的制备。综述了贵金属溅射靶材制备方法、技术要求和应用情况的研究进展，指出高纯化、大尺寸、高利用率以及靶材生产与溅射镀膜一体化是贵金属靶材未来发展方向。

关键词：贵金属, 溅射靶材, 薄膜, 制备方法, 应用