不同Si3N4相涂层坩埚中全熔多晶硅锭的制备及表征

来源：机械工程材料杂志2017年第5期北京时间：

作者：李永乐, 黄金亮, 李飞龙, 李谦, 李丽华

摘要：以α-Si3N4和β-Si3N4粉为原料，采用免烧结工艺在坩埚内壁上分别制备了α-Si3N4涂层、β-Si3N4涂层以及二者质量比为1 ∶1的复合涂层，然后在这些涂层坩埚中制备得到了多晶硅铸锭，观察了涂层和硅锭的表面形貌，测试了硅锭的表面粗糙度、晶粒大小以及红区长度。结果表明：α-Si3N4涂层表面粗糙不平、起伏不均匀，对应硅锭的表面粗糙度和晶粒尺寸最大，红区最长；β-Si3N4涂层表面较平整且起伏均匀，对应硅锭的表面粗糙度最小，晶粒尺寸较小，红区最短；复合涂层的表面粗糙度介于上述二者之间，对应硅锭的晶粒尺寸最小，红区长度介于二者之间。

关键词：表面粗糙度, Si3N4涂层, 红区长度, 晶粒尺寸