化学气相沉积法制备硅质量分数6.5%硅钢的脆性
来源：机械工程材料杂志2015年第12期北京时间：
作者：高 超, 苏芳臣, 相颖杰, 孙 权, 陈建钧
摘要：采用化学气相沉积（CVD）法制备了硅质量分数为6.5%的硅钢，利用扫描电镜、能谱仪和自主设计研发的三点压弯机研究了反应温度、气氛含氧量和SiCl4含量对硅钢脆性的影响。结果表明:硅钢的晶粒尺寸随反应温度的升高而长大，硅钢的脆性随着晶粒尺寸的增加而增大；气氛含氧量在100 mg·kg-1时所制备的硅钢产生了晶界氧化现象，使硅钢脆性增加；SiCl4含量较大时(体积分数35%)所制备的硅钢产生了Kirkendall空洞，导致其脆性加剧。
关键词：CVD法, 硅钢, 脆性, 晶界氧化
