基于PEM的反应磁控溅射镀膜机参数监控系统

来源：计算机测量与控制杂志2014年第10期北京时间：

作者：李锐,张军,汪小芳,张道配,王斌华

摘要：实时在线监测磁控溅射反应气体的参数可有效保证镀膜质量;针对反应磁控溅射离子镀膜机反应气体的功能需求,分析了反应气体的控制原理,基于PEM方法提出了控制器方案和反应气体的参数监控方案,分析了监控系统的功能需求,自定义了串口通信协议,基于LabVIEW和串口设计了反应气体的参数监控系统系统,并与设计的控制器用于镀膜工艺试验;试验结果表明,基于PEM方法设计的反应气体参数监控系统功能正确,可为控制器和镀膜机提供参数调控依据,为提高硬质镀膜质量提供了一套有效的监控方法。

关键词：磁控溅射;真空镀膜;串口通信;LabVIEW

基金资助：长安大学中央高校基本科研业务费(2014G1251024,2013G1251032)。