纳米尺度HfO2薄膜的光谱椭偏模型建立
来源：计量学报杂志2017年第5期北京时间：
作者：张寅辉,任玲玲,高慧芳,贾亚斌,Fu Weien, 刘小萍,Kim Changsoo,Yasushi Azuma
单位：1. 太原理工大学, 山西 太原 030024; 2. 中国计量科学研究院, 北京 100029;
摘要：为了建立厚度为1 nm左右HfO2超薄膜的光谱椭偏测量方法,采用掠入射X射线反射技术进行国家/地区实验室间比对认证,其膜厚准确量值作为参比值,建立了HfO2 超薄膜的光谱椭偏结构拟合模型。研究了HfO2超薄膜的光谱椭偏色散模型和拟合参数,最后确定了拟合色散模型为Tauc-Lorentz 3,拟合光谱范围为3.45~4.35 eV,表面污染层孔隙比例为60:40。
关键词：计量学; HfO2超薄膜; 纳米尺度; 光谱椭偏模型; 掠入射X射线反射技术
基金资助：国家质量基础的共性技术研究与应用重点专项基金(2016YFF0204300); 国家重点研发计划纳米科技重点专项(2016YFA0200901)
