表面和亚表面特性对多层膜光栅成像对比度的影响

来源：计量学报杂志2018年第3期北京时间：

作者：张龙飞,王星睿,邓晓,程鑫彬

单位：1. 同济大学 物理科学与工程学院, 上海 200092; 2. 同济大学 精密光学工程技术研究所, 上海 200092;

摘要：基于Si/SiO2材料对制备出名义节距为50 nm的多层膜光栅,重点分析了多层膜光栅研磨抛光过程中的亚表面损伤和湿法刻蚀均匀性问题。并利用原子力显微镜（AFM）和透射电子显微镜（TEM）对多层膜的截面粗糙度和刻蚀光栅结果进行了测量和分析。测量结果显示:多层膜光栅制备过程中的截面粗糙度降低和刻蚀均匀性的提高,有助于TEM测量获得均一的高成像对比度多层膜光栅图像。

关键词：计量学; 多层膜光栅; 成像对比度; 表面特性; 粗糙度; 刻蚀均匀性; TEM

基金资助：国家自然科学基金(51475335); 中国博士后科学基金（2017M611613）