SiO2-SiNX体系光学谐振腔对Ti超导薄膜特性的研究

来源：计量学报杂志2023年第4期北京时间：

作者：刘海燕,孙潇莹,李劲劲,王雪深,陈建,高鹤,周哲海,徐骁龙

单位：北京信息科技大学 机械行业现代光电测试技术重点实验室, 北京 100192

摘要：设计良好的光学谐振腔是提高超导转变边沿传感器(TES)光学效率的有效手段,光学谐振腔结构厚度的变化,不仅对TES的光学效率有影响,而且会产生不同的残余应力进而影响TES的超导特性。研究了以超导Ti膜为TES功能层材料,同时选用SiO2-SiNx体系作为光学谐振腔薄膜。通过对数值仿真,确定了SiO2-SiNx体系光学谐振腔薄膜厚度变化对Ti-TES光学吸收效率的影响。分析了SiO2-SiNx体系光学谐振腔不同薄膜厚度的变化自身应力随之变化的趋势,最后制备了不同厚度SiO2-SiNx光学谐振腔的TES,并进行光学吸收效率的测试,验证了SiO2-SiNx体系光学谐振腔薄膜厚度对Ti-TES光学吸收效率变化的规律。

关键词：计量学; TES;超导薄膜; 光学谐振腔; SiO2-SiNx体系; Ti膜

基金资助：国家自然科学基金青年科学基金(61901432,61701470);国家市场监督管理总局科技计划(2020MK153,2019MK112);中国计量科学研究院基本科研业务费重点领域项目(AKYZD1903);北京长城学者支持计划(CIT&TCD20190323);北京青年拔尖人才支持计划(Z2019042)