PCM设备电容参数整体校准方法研究

来源：计量学报杂志2023年第6期北京时间：

作者：乔玉娥,刘霞美,丁晨,朱超,吴爱华

单位：中国电子科技集团公司第十三研究所,河北 石家庄 050051

摘要：半导体行业中普遍使用的工艺过程监控设备(PCM设备),是芯片产品中测环节必不可少的测量设备。PCM设备电容参数的准确测量,是保证与电容制作相关工艺参数的重要手段。针对国内PCM设备电容参数暂无溯源途径现状,根据其测试原理,研究了基于在片电容标准件的整体无损校准方法。采用增加绝缘层的半导体工艺,研制了高稳定性、频响至1MHz、电容低至0.5pF的在片电容标准件,满足了国内PCM设备电容参数自动校准需求,测量不确定度优于1%。研究了PCM设备电容参数溯源方法,从而保证了芯片产品PCM图形电容量值测量结果的准确一致,提高了计量效率。

关键词：计量学; 在片电容标准件; 工艺过程监控设备; 整体校准; 定标装置; 溯源