高品质因子氟化镁晶体微腔制备与测试

来源：计量学报杂志2023年第8期北京时间：

作者：瞿志二,潘奕捷,刘贤文,张诚,王瑾,屈继峰

单位：1. 中国计量科学研究院 前沿计量科学研究中心, 北京 100029; 2. 北京理工大学 光电学院, 北京 100081;

摘要：研制了基于直线电机、高精度光栅尺、力学反馈单元的精密自动磨抛系统。在制备晶体微腔时,该系统可准确控制晶体微腔的尺寸、厚度及外形。采用预成型、粗磨、粗抛以及精抛等步骤制备了具有高品质因子的氟化镁晶体梯形微盘腔。利用白光干涉仪表征精抛后的氟化镁晶体表面粗糙度为2.84nm。通过搭建锥形光纤与晶体微腔耦合测试系统,采用光腔衰荡方法测得所制备的晶体微腔在1550nm处的本征品质因子为4.55×108。

关键词：计量学;光学微腔;氟化镁晶体;高品质因子;精密磨抛

基金资助：国家重点研发计划(2022YFF0608304, 2021YFA1401200);国家自然科学基金(62075206, 62205324, 62105023)