X射线超导转变边沿传感器超导薄膜研究

来源：计量学报杂志2025年第1期北京时间：

作者：贾娥, 李万, 胡家昊, 白海军, 陈建, 徐骁龙, 郭思明, 孙天宝, 赵晓波, 李劲劲, 王雪深

摘要：采用超高真空直流磁控溅射技术，分别制备了超导Mo薄膜和Mo/Au双层薄膜，研究了不同的溅射功率和溅射气压下薄膜的应力、粗糙度和超导转变温度的变化，实现了应力范围为-421 ~ 163 Mpa、粗糙度<1 nm、超导转变温度为1.06 ~ 1.10 K的Mo薄膜制备，并以此为基础制备了应力范围在-38 MPa至26 MPa之间，超导转变温度为80 ~ 350 mK的Mo/Au薄膜，为研制单能X射线超导转变边沿传感器（TES）提供了技术储备。

关键词：电学计量,超导转变边沿传感器,磁控溅射,超导薄膜,Mo/Au双层薄膜,单能X射线

基金资助：国家重点研发计划(2022YFF0608303)