MEOMS封装的锗窗金属化结构界面特性研究
来源：激光与红外杂志2016年第4期北京时间：
作者：王新宇
单位：华北光电技术研究所,北京 100015；
摘要：基于微光机电系统对真空封装的要求,采用磁控溅射法在锗窗口上制备不同膜系的金属化结构,研究在相同的热处理条件下,不同膜系结构对锗窗口界面特性的影响。采用俄歇电子能谱分析原子在膜层间和膜基间的扩散行为。采用划痕测试仪分析膜基间的力学性能。结果表明:Ni元素对Au元素的阻挡效果明显,Cr/Ge的界面扩散剧烈。Cr/Ni/Au金属化结构的膜基结合力为14N,优于其他膜系结构,对于提高锗窗膜基结合强度效果最显著。
关键词：锗窗;金属化;热处理;俄歇电子能谱
