碲镉汞p型接触孔低损伤干法刻蚀技术研究
来源：激光与红外杂志2018年第5期北京时间：
作者：宁提
单位：1.华北光电技术研究所,北京 100015；2.中国航天标准化与产品保证研究院,北京 100071；
摘要：对碲镉汞材料干法刻蚀损伤进行研究,采用感应耦合等离子体干法刻蚀技术、湿法腐蚀方法完成碲镉汞接触孔刻蚀,通过扫描电子显微镜和激光扫描显微镜分析刻蚀后样品的表面形貌,利用伏安特性曲线分析刻蚀样品的表面损伤。实验结果表明,干法刻蚀工艺极易造成碲镉汞p型接触孔表面反型,提出了一种新型的干法混合刻蚀技术,该技术通过两步干法刻蚀工艺实现,有效地降低了刻蚀引入的表面损伤。
关键词：碲镉汞;感应耦合等离子体刻蚀;低损伤
