碲镉汞薄膜分步化学抛光技术研究

作者：肖钰

单位：华北光电技术研究所,北京 100015；

摘要：针对碲镉汞薄膜化学抛光过程中容易产生材料组分均匀性变差、影响芯片性能的现象,提出了一种分步化学抛光技术。材料表面分析和组分分析结果表明,分步化学抛光可以降低材料表面的粗糙度,改善化学抛光材料组分的均匀性,有效地去除材料表面氧化,同时对探测器芯片性能的均匀性提升也做出了一定的贡献。

关键词：碲镉汞薄膜;化学抛光;分步;均匀性