高均匀性接触孔碲镉汞探测器件研究
来源：激光与红外杂志2025年第7期北京时间：
作者：赵泽人
单位：华北光电技术研究所,北京 100015；
摘要：接触孔是碲镉汞红外探测器引出光敏元信号的电极所附着的区域,其形状尺寸均匀性对探测器性能有重要影响。随着探测器芯片感光像元间距的减小,高深宽比光刻图形加工得到的接触孔均匀性下降。本文提出了使用金属层作掩膜,通过薄胶光刻、薄胶刻蚀的方法,制备出了均匀性高、孔底形貌好的接触孔,接触孔非均匀性从光刻胶掩膜的1154降低到了金属掩膜的598,突破了小间距碲镉汞芯片均匀性较差的难题,对探测器信号均匀性的提升具有参考意义。
关键词：碲镉汞;接触孔;金属掩膜
