蚀刻金属铝箔覆型制备Ni-P微阵列材料及析氢电催化性能研究

来源：化学通报杂志2016年第4期北京时间：

作者：向天琛,赵强,薛娱静,闫康平

摘要：以蚀刻金属铝箔为模板，用化学镀制备了具有微米阵列结构的Ni-P合金材料，使用扫描电镜、能量散射谱及X-射线衍射等表征手段对所得材料的微观形貌与物质组成进行了分析，并通过电化学方法研究了化学镀温度、施镀时间对材料析氢催化活性的影响。结果表明，70℃制得的Ni-P微阵列材料作电极其析氢过电位最小，电流密度为15mA/cm2时较光面Ni-P镀层下降了约100mV；同时表现出最高的交换电流密度13.53×10-6A/cm2，高出光面Ni-P镀层近1个数量级；70℃施镀4h能够得到析氢过电位较低且结构完整的镀层，延长镀时没有继续提升其性能。为直观衡量材料的催化活性，在双室槽中进行了光解水析氢测试。Ni-P微阵列材料表现出良好的催化活性，析氢速率较光面电极上升约200%。

关键词：蚀刻金属铝箔,化学镀镍,阵列结构,析氢反应,