钛薄膜制备工艺及物理特性研究

作者：蔡长龙

单位：陕西省薄膜技术与光学测试重点实验室西安工业大学光电工程学院

摘要：采用直流磁控溅射镀膜技术，在硅片上以不同的工艺参数（如溅射功率、工作气压）制备钛薄膜。通过单因素试验研究了溅射功率和工作气压对钛薄膜沉积速率、电阻率的影响，并利用扫描电子显微镜观察薄膜样品截面，获得了制备低电压起爆的复合含能桥膜的最佳工艺参数。

关键词：钛薄膜;溅射功率;工作气压;沉积速率;电阻率;微观结构