一种考虑空间关联工艺偏差的统计静态时序分析方法

来源：电子与信息学报杂志2015年第2期北京时间：

作者：喻伟, 杨海钢, 刘洋, 黄娟, 蔡博睿, 陈锐

摘要：为了准确评估工艺参数偏差对电路延时的影响，该文提出一种考虑空间关联工艺偏差的统计静态时序分析方法。该方法采用一种考虑非高斯分布工艺参数的二阶延时模型，通过引入临时变量，将2维非线性模型降阶为1维线性模型；再通过计算到达时间的紧密度概率、均值、二阶矩、方差及敏感度系数，完成了非线性非高斯延时表达式的求和、求极大值操作。经ISCAS89电路集测试表明，与蒙特卡洛仿真(MC)相比，该方法对应延时分布的均值、标准差、5%延时点及95%延时点的平均相对误差分别为0.81%, -0.72%, 2.23%及-0.05%，而运行时间仅为蒙特卡洛仿真的0.21%，证明该方法具有较高的准确度和较快的运行速度。

关键词：集成电路, 统计静态时序分析, 空间关联, 非高斯非线性, 工艺偏差, 延时模型

基金资助：国家科技重大专项(2013ZX03006004)和国家自然科学基金(61106033)资助课题