《电子与信息学报杂志》发表论文赏析
作者:闫爱斌, 李坤, 黄正峰, 倪天明, 徐辉
单位:1.合肥工业大学微电子学院 合肥 2306012.安徽工程大学集成电路学院 芜湖 2410003.安徽理工大学计算机科学与工程学院 淮南 232001
摘要:CMOS尺寸的大幅缩小引发电路可靠性问题。该文介绍了两种高可靠的基于设计的抗辐射加固(RHBD)10T和12T抗辐射加固技术(SRAM)单元,它们可以防护单节点翻转(SNU)和双节点翻转(DNU)。10T单元主要由两个交叉耦合的输入分离反相器组成,该单元可以通过其内部节点之间的反馈机制稳定地保持存储的值。由于仅使用少量晶体管,因此其在面积和功耗方面开销也较低。基于10T单元,提出了使用4个并行存取访问管的12T单元。与10T单元相比,12T单元的读/写访问时间更短,且具有相同的容错能力。仿真结果表明,所提单元可以从任意SNU和部分DNU中恢复。此外,与先进的加固SRAM单元相比,所提RHBD 12T单元平均可以节省16.8%的写访问时间、56.4%的读访问时间和10.2%的功耗,而平均牺牲了5.32%的硅面积。
关键词:CMOS, 静态随机存储器单元, 抗辐射加固, 单节点翻转, 双节点翻转
基金资助:国家自然科学基金(61974001)