《电子测量技术杂志》发表论文赏析

基于双重注意力校准机制的口罩遮挡人脸识别

来源:电子测量技术杂志2025年第22期北京时间:

作者:傅鹏飞,徐巍,刘怀广,刘源泂,刘劲威

单位:1.武汉科技大学机械工程学院 武汉 430081; 2.武汉科技大学冶金装备及其控制教育部重点实验室 武汉 430081; 3.机械传动与制造工程湖北省重点实验室 武汉 430081

摘要:针对口罩遮挡下注意力机制存在的多维度动态协同能力不足与细粒度抑制欠缺等问题,本文提出一种基于双重注意力校准的鲁棒识别方法,在通道和空间两个维度进行遮挡区域的动态校准。其中通道维度基于全局统计量抑制污染通道的异常响应,空间维度则定位遮挡区域并削弱其梯度传播,实现了从粗粒度筛选到细粒度增强的动态校准。在此基础之上,通过加权交叉熵损失和三元组损失进一步引导模型聚焦了局部未遮挡区域的特征表达,从而扩大类间特征距离间隔。实验结果表明,本文提出的双重注意力校准机制经过通道维度特征筛选与空间维度区域增强的协同作用,本文算法在LFW与AgeDB30的掩膜场景下,相比于ArcFace算法,分别提高了6%和7.2%的准确率,在真实遮挡数据集MAFA数据集上则提高了7.3%,验证了其在复杂遮挡场景下的识别鲁棒性。

关键词:口罩遮挡人脸识别;注意力机制;双重注意力校准;加权交叉熵损失;三元组损失

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