带有自发射流的涡轮叶顶间隙流场PIV测量

来源：动力工程学报杂志2016年第11期北京时间：

作者：胡建军, 张铎, 李志显, 马龙, 孔祥东,

摘要：为了探究叶尖射流对涡轮叶栅流场特性的影响，搭建了一个小尺度低速叶栅风洞实验台，利用粒子成像测速（PIV）技术对带有自发射流的涡轮叶顶间隙流场进行了直接测量，获得了低雷诺数（Re=6.46×103~3.23×104）下射流孔附近的流动图像及速度测量结果，展示了叶顶间隙内层流和紊流2种流态下自发射流与泄漏流的相互作用过程，揭示了低雷诺数工况下（涵盖层流到紊流的转捩）叶尖射流抑制泄漏流的作用机理及影响因素，并对叶尖射流尾迹中出现的类卡门涡街的涡分布现象进行了探讨.结果表明：叶尖射流的引入在泄漏流抑制方面取得一定收益，但同时也进一步加剧了叶顶间隙流动的复杂性.

关键词：叶顶间隙,泄漏流,叶尖射流,PIV,流场,